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12月11日消息,臺(tái)積據(jù)行業(yè)媒體報(bào)道,產(chǎn)成全球領(lǐng)先的功良芯片制造商臺(tái)積電在其位于新竹的寶山工廠正式啟動(dòng)了2納米(nm)工藝的試產(chǎn),并取得了令人矚目的品率成果——良率達(dá)到了60%,這一數(shù)字超出了臺(tái)積電內(nèi)部的明年預(yù)期。不僅如此,芯片臺(tái)積電還計(jì)劃于明年上半年在高雄工廠也展開2nm工藝的又漲試產(chǎn)活動(dòng),進(jìn)一步加速其先進(jìn)制程技術(shù)的臺(tái)積亞洲歐美精品一中文字幕布局。

臺(tái)積電在芯片制造領(lǐng)域的領(lǐng)先地位得益于其持續(xù)的技術(shù)創(chuàng)新和嚴(yán)格的品質(zhì)控制。通常,代工廠要實(shí)現(xiàn)芯片的大規(guī)模量產(chǎn),需要達(dá)到70%甚至更高的良率。而臺(tái)積電在2nm工藝上的初步成果顯示,其在正式量產(chǎn)前有足夠的時(shí)間來優(yōu)化工藝,提升良率至量產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)。亞洲歐美亂日韓亂國產(chǎn)

隨著2nm時(shí)代的逼近,芯片制造的成本也顯著上升。據(jù)知情人士透露,臺(tái)積電2nm晶圓的價(jià)格已經(jīng)突破了3萬美元大關(guān),相較于目前3nm晶圓1.85萬至2萬美元的價(jià)格區(qū)間,漲幅顯著。然而,亞洲歐美日本韓國值得注意的是,臺(tái)積電的實(shí)際報(bào)價(jià)會(huì)根據(jù)具體客戶、訂單量以及市場情況有所調(diào)整,3萬美元僅為一個(gè)大致的參考價(jià)位。

回顧歷史,自2004年臺(tái)積電推出90nm芯片以來,其晶圓報(bào)價(jià)就隨著制程技術(shù)的亞洲歐美日韓國產(chǎn)手機(jī)在線不斷進(jìn)步而逐步攀升。到2016年,當(dāng)制程技術(shù)演進(jìn)至10nm時(shí),報(bào)價(jià)已經(jīng)顯著增加至6000美元。進(jìn)入7nm、5nm制程世代后,報(bào)價(jià)更是突破了萬元大關(guān),其中5nm工藝的價(jià)格高達(dá)16000美元。并且,這些價(jià)格還未計(jì)入臺(tái)積電后續(xù)可能的價(jià)格調(diào)整。

這一趨勢(shì)也在市場層面得到了反映。今年10月份,高通、聯(lián)發(fā)科等芯片巨頭紛紛將其旗艦產(chǎn)品轉(zhuǎn)向3nm工藝制程,隨之而來的則是相關(guān)終端產(chǎn)品的價(jià)格上漲。半導(dǎo)體業(yè)內(nèi)人士分析認(rèn)為,由于先進(jìn)制程技術(shù)的成本居高不下,芯片廠商面臨巨大的成本壓力,這些成本最終很可能會(huì)轉(zhuǎn)嫁給下游客戶或終端消費(fèi)者。

在2nm制程節(jié)點(diǎn)上,臺(tái)積電更是實(shí)現(xiàn)了技術(shù)上的重大突破。首次采用了Gate-all-around FETs晶體管技術(shù),這一創(chuàng)新不僅提升了芯片的性能和功耗表現(xiàn),還為芯片設(shè)計(jì)人員提供了更加靈活的標(biāo)準(zhǔn)元件選擇。通過搭配NanoFlex技術(shù),N2工藝在相同功率下可以實(shí)現(xiàn)10%到15%的性能提升,或者在相同頻率下降低25%到30%的功耗,同時(shí)晶體管密度也提升了15%。這些技術(shù)優(yōu)勢(shì)使得臺(tái)積電在2nm制程領(lǐng)域的競爭力進(jìn)一步增強(qiáng)。

(責(zé)任編輯:國產(chǎn)精品99)

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